名稱 | 類金剛石薄膜作光學增透膜的新應(yīng)用 | ||
公開號 | 1076552 | 公開日 | 1993.09.22 |
主分類號 | H01L31/0216 | 分類號 | H01L31/0216;H01L31/0232;H01L31/18;C23C16/26;C23C16 |
申請?zhí)?/strong> | 92108354.8 | ||
分案原申請?zhí)?/strong> | 申請日 | 1992.03.17 | |
頒證日 | 上海科學技術(shù)大學 | 優(yōu)先權(quán) | 201800上海市嘉定縣南門城中路20號 |
申請人 | 夏義本; 安其霖; 居建華; 史偉民; 王鴻 | 地址 | |
發(fā)明人 | 國際申請 | ||
國際公布 | 進入國家日期 | ||
專利代理機構(gòu) | 上海高校專利事務(wù)所 | 代理人 | 張建成 |
摘要 | 類金剛石薄膜以高頻等離子體氣相淀積法,涂覆于硅太陽能與紅外探測器上,具有增透膜的用途。本發(fā)明解決了該類光電器件原有增透膜的光電轉(zhuǎn)換率及光透性差問題,特別是應(yīng)用于硅太陽能電池上,已使其光譜響應(yīng)明顯提高;短路電流增加率達37.9%,也已接近40%理論值;于600~700nm波長內(nèi)量子效率近于1。用于紅外探測器特別是碲鎘汞材料所制器件,既解決了8~14μm光增透材料,而且使透射率平均提高16%。 |