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一種化學(xué)氣相沉積鍍制金剛石膜的設(shè)備

關(guān)鍵詞 CVD , 電鍍 , 金剛石膜|2018-01-02 08:39:03|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 申請?zhí)?201720497623.3申請日:2017.05.05申請人:寧波工程學(xué)院發(fā)明人:王瑞來;鮑明東;徐雪波;杜一;馮超;呂志甲;楊夢夢&nbs

申請?zhí)? 201720497623.3

申請日: 2017.05.05

申請人: 寧波工程學(xué)院  

發(fā)明人: 王瑞來; 鮑明東; 徐雪波; 杜一; 馮超; 呂志甲; 楊夢夢 

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       摘要: 

       本實用新型涉及金剛石膜制備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種化學(xué)氣相沉積鍍制金剛石膜的設(shè)備,包括鍍膜腔體(1)和工控系統(tǒng),電極(2)和試樣臺(4),還包括輔助腔體(5),電動閥門(6),所述電動閥門(6)與工控系統(tǒng)電連接,所述輔助腔體(5)內(nèi)具有在鍍膜時用以向試樣(3)表面吹氣的吹氣裝置,所述吹氣裝置滑動連接在安裝臺(7)上,安裝臺(7)上還設(shè)有驅(qū)動裝置。采用這種結(jié)構(gòu)后,當(dāng)觀察到試樣表面出現(xiàn)異質(zhì)顆粒物時,可以及時將異質(zhì)顆粒物從試樣表面清除,從而可以避免鍍制出來的金剛石膜受到異質(zhì)顆粒物的影響,保證鍍制出來的金剛石膜的質(zhì)量。

       主權(quán)利要求:

       一種化學(xué)氣相沉積鍍制金剛石膜的設(shè)備,包括鍍膜腔體(1)、安裝臺架(40)和工控系統(tǒng),所述鍍膜腔體(1)固定在安裝臺架(40)上,所述鍍膜腔體(1)內(nèi)固定有電極(2)和用于夾持試樣(3)的試樣臺(4),所述試樣臺(4)位于電極(2)正下方,其特征在于:所述一種化學(xué)氣相沉積鍍制金剛石膜的設(shè)備還包括輔助腔體(5),所述輔助腔體(5)與鍍膜腔體(1)連接,所述輔助腔體(5)與鍍膜腔體(1)之間設(shè)有將輔助腔體(5)與鍍膜腔體(1)隔開的電動閥門(6),所述電動閥門(6)與工控系統(tǒng)電連接,所述輔助腔體(5)內(nèi)具有在鍍膜時用以向試樣(3)表面吹氣的吹氣裝置,所述輔助腔體(5)內(nèi)固定有安裝臺(7),所述吹氣裝置滑動連接在安裝臺(7)上,安裝臺(7)上還設(shè)有用以將吹氣裝置推向試樣(3)方向運(yùn)動的驅(qū)動裝置,所述驅(qū)動裝置與吹氣裝置連接,所述輔助腔體(5)的腔體上連接有抽氣裝置(8),所述一種化學(xué)氣相沉積鍍制金剛石膜的設(shè)備還包括用以給吹氣裝置提供氣源的氣源系統(tǒng),所述吹氣裝置與氣源系統(tǒng)連接。

 

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