| 名稱 | 回旋電子增強熱絲化學氣相沉積制備金剛石薄膜的方法 | ||
| 公開號 | 1355330 | 公開日 | 2002.06.26 |
| 主分類號 | C23C16/27 | 分類號 | C23C16/27;C23C16/48 |
| 申請?zhí)?/strong> | 00132597.3 | ||
| 分案原申請?zhí)?/strong> | 申請日 | 2000.11.30 | |
| 頒證日 | 優(yōu)先權 | ||
| 申請人 | 黑龍江省光電技術研究所 | 地址 | 157000黑龍江省牡丹江市光華街106－1號 |
| 發(fā)明人 | 申家鏡;申輝;邵春雷;張傳勝;魏雪峰 | 國際申請 | |
| 國際公布 | 進入國家日期 | ||
| 專利代理機構 | 代理人 | ||
| 摘要 | 回旋電子增強熱絲化學氣相沉積制備金剛石薄膜的方法，其特征是在生長襯底的下部設置能產(chǎn)生可使電子作螺旋曲線運動的環(huán)形磁場的線圈。本發(fā)明可增加金剛石膜的生長速度，提高金剛石膜的質量 | ||
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