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化學氣相沉積金剛石均質(zhì)噴嘴

名稱化學氣相沉積金剛石均質(zhì)噴嘴公開號2423289公開日2001.03.14主分類號C23C16/27

日期 2010-12-23   

化學氣相沉積法碳化硅連續(xù)纖維用碳芯的制備方法

名稱化學氣相沉積法碳化硅連續(xù)纖維用碳芯的制備方法公開號1103904公開日1995.06.21主分類號D01F9/155

日期 2010-12-22   

回旋電子增強熱絲化學氣相沉積制備金剛石薄膜的方法

名稱回旋電子增強熱絲化學氣相沉積制備金剛石薄膜的方法公開號1355330公開日2002.06.26主分類號C23C1

日期 2010-12-21   

光子-熱絲化學氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法

名稱光子-熱絲化學氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法公開號1355329公開日2002.06.26主分類號C23C1

日期 2010-12-21   

一種熱絲化學氣相沉積金剛石的設(shè)備

名稱一種熱絲化學氣相沉積金剛石的設(shè)備公開號2283067公開日1998.06.03主分類號C23C16/26&nbs

日期 2010-12-21   

化學氣相沉積金剛石聚晶金剛石復合型金剛石材料及應用

名稱化學氣相沉積金剛石聚晶金剛石復合型金剛石材料及應用公開號CN1504591公開日2004.06.16主分類號C

一種復合激光化學氣相沉積金剛石膜的方法

名稱一種復合激光化學氣相沉積金剛石膜的方法公開號1221806公開日1999.07.07主分類號C23C16/26&

日期 2010-12-10   

一種大面積高速度熱絲化學氣相沉積金剛石的方法及設(shè)備

名稱一種大面積高速度熱絲化學氣相沉積金剛石的方法及設(shè)備公開號1160089公開日1997.09.24主分類號C23C

日期 2010-12-10   

一種激光化學氣相沉積金剛石膜的方法

名稱一種激光化學氣相沉積金剛石膜的方法公開號1122378公開日1996.05.15主分類號C23C16/26&nb

日期 2010-12-10   

韌化的化學氣相沉積金剛石

名稱韌化的化學氣相沉積金剛石公開號1112904公開日1995.12.06主分類號C01B31/06

日期 2010-12-10   

弧光放電化學氣相沉積金剛石薄膜的方法

名稱弧光放電化學氣相沉積金剛石薄膜的方法公開號1041187公開日1990.04.11主分類號C23C16/26&n

日期 2010-12-09   

化學氣相沉積層技術(shù)在切削上的應用

化學氣相沉積層的優(yōu)點是:膜層致密,與基體結(jié)合牢固,沉積性好,膜厚且比較均勻,膜層質(zhì)量比較穩(wěn)定,易于實現(xiàn)大批量生產(chǎn)等。近幾年來,cvD技術(shù)已廣泛應用于機械和儀表零件、刀具...

日期 2009-01-19   

物理氣相沉積(PVD)制備氧化鋁涂層

物理氣相沉積(PVD)制備氧化鋁涂層
物理氣相沉積(PVD)制備氧化鋁涂層
物理氣相沉積(PVD)制備氧化鋁涂層

1引言由于氧化鋁薄膜具有令人關(guān)注的優(yōu)異性能,如高溫穩(wěn)定性、化學穩(wěn)定性、低的熱導率和電導率等,目前利用化學氣相沉積(CVD)涂覆氧化鋁薄膜作為耐磨涂層材料已廣泛應用于硬質(zhì)...

日期 2008-03-07   

何為化學氣相沉積(CVD)?

CVD是ChemicalVaporDeposition的簡稱,是指高溫下的氣相反應,例如,金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解,氫還原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生...

日期 2008-02-17   

SP3公司新近推出雙反應釜化學氣相沉積設(shè)備

美國SP3公司近期推出新型熱絲化學氣相沉積設(shè)備——Model665。這一新型雙反應釜設(shè)備可一次性容納18片直徑為100毫米的基體,這意味著其沉積...

日期 2010-10-25   

法IonBond氣相沉積涂層新基地投入運營

法國OLTEN消息,法國IonBondPVD涂料公司近日宣布,隨著公司業(yè)務規(guī)模的不斷擴大,IonBond將原設(shè)在Neuilly-en-Thelle地區(qū)的業(yè)務遷入Bert...

日期 2008-08-08   
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2023年9月20日,時隔四年,期待已久的第六屆磨料磨具磨削展覽會在鄭州國際會展中心隆重開幕。本次展覽會由中國機械工業(yè)集團有限公司、國機精工股份有限公司、中國機械國際合作股份有限公司聯(lián)合主辦。旨在推動中國磨料磨具行業(yè)的快速發(fā)展,加強國內(nèi)外企業(yè)的交流與合作。