隨著半導(dǎo)體技術(shù)的飛速發(fā)展，化學(xué)機械拋光（CMP）作為一項關(guān)鍵工藝，承擔(dān)著集成電路制造中平整化處理的重任。CMP工藝通過機械磨削和化學(xué)反應(yīng)相結(jié)合的方式，使得晶圓表面達(dá)到所需的平整度，以滿足后續(xù)工藝需求。傳統(tǒng)的CMP耗材多采用多晶金剛石，這種材料雖然價格較為經(jīng)濟，但在長時間高精度加工中的耐磨性和穩(wěn)定性較差。而單晶金剛石由于其優(yōu)異的機械強度和化學(xué)惰性，逐漸被認(rèn)為是替代多晶金剛石的理想材料。通過激光切割的單晶金剛石盤，不僅在微觀結(jié)構(gòu)上表現(xiàn)出更均勻的切削能力，同時具備更長的使用壽命和更高的工藝穩(wěn)定性。

       近日，Morglory公司推出新一代單晶金剛石盤（disks),這標(biāo)志著全球領(lǐng)先的單晶金剛石技術(shù)進入CMP工藝應(yīng)用市場。新一代單晶金剛石盤的誕生，源自于先進的單晶金剛石制造技術(shù)。傳統(tǒng)的CMP耗材產(chǎn)品主要依賴多晶合成金剛石。然而，最新推出的單晶金剛石盤通過精確的激光切割技術(shù)，實現(xiàn)了極致的金字塔尖端結(jié)構(gòu)。這一結(jié)構(gòu)不僅增強了盤的耐用性和耐磨性，還能在加工過程中提供更加穩(wěn)定的切削力，大幅提高了CMP工藝的精度和效率。

       其中，單晶金剛石激光切割技術(shù)是這一突破的關(guān)鍵。該技術(shù)確保了每個金剛石頂點的高度、角度和間距特性完全可控且穩(wěn)定。此外，還可根據(jù)客戶的具體需求進行定制設(shè)計與生產(chǎn)，提供多樣化的CMP工藝優(yōu)化解決方案。

       目前，這一新一代單晶金剛石盤已在多家半導(dǎo)體工藝制造商中進入試用階段。其研磨效果在頂點高度、角度和間距的均勻性等方面表現(xiàn)出了極高的精度和穩(wěn)定性，并獲得了初步的積極反饋。未來，這款產(chǎn)品預(yù)計將在全球半導(dǎo)體工藝應(yīng)用市場進一步推廣，為全球半導(dǎo)體行業(yè)的技術(shù)升級提供強有力的支持。