現(xiàn)代新發(fā)展起米的超精研磨和拋光技術(shù),主要有兩類:一是為尋求降低表面粗糙度假及提高尺寸精度的高要求而展開的;二是為實現(xiàn)電子元件、光學(xué)元件等特定功能材料及其復(fù)合材料的各種元件機(jī)能而展開的。它要研究解決與高形狀精度和尺寸精度相匹配的表面粗糙度和極小的表面變質(zhì)層問題。如對于單品材料的加工,既要求平面度、板厚.和方位的形狀精度,還必須創(chuàng)成出物理或結(jié)晶學(xué)的完全晶面。
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