名稱 | 金剛石單晶薄膜的制造方法 | ||
公開號(hào) | 1096548 | 公開日 | 1994.12.21 |
主分類號(hào) | C23C16/26 | 分類號(hào) | C23C16/26;C23C16/56 |
申請(qǐng)?zhí)?/strong> | 93112459.X | ||
分案原申請(qǐng)?zhí)?/strong> | 申請(qǐng)日 | 1993.06.17 | |
頒證日 | 優(yōu)先權(quán) | ||
申請(qǐng)人 | 上海交通大學(xué) | 地址 | 200030上海市華山路1954號(hào) |
發(fā)明人 | 張志明; 李勝華; 蔡琪玉; 閔乃本 | 國際申請(qǐng) | |
國際公布 | 進(jìn)入國家日期 | ||
專利代理機(jī)構(gòu) | 上海交通大學(xué)專利事務(wù)所 | 代理人 | 羅蔭培 |
摘要 | 金剛石單晶薄膜的制造方法,它屬于一種用于半導(dǎo)體材料與器件的金剛石單晶薄膜制造方法。在以氫氣和丙酮為反應(yīng)氣體,用微波等離子體CVD或熱絲CVD在<111>取向的金剛石襯底上進(jìn)行同質(zhì)外延過程中,采用在反應(yīng)氣體中添加適量氧氣和惰性氣體,同時(shí)對(duì)襯底進(jìn)行研磨處理的工藝,結(jié)果能得到平整光滑的,結(jié)晶完整性好的<111>取向同質(zhì)外延金剛石單晶薄膜?! ? |