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官方微信摘要 名稱微波法低溫沉積細晶粒金剛石薄膜公開號1066299公開日1992.11.18主分類號C23C16/26&n
| 名稱 | 微波法低溫沉積細晶粒金剛石薄膜 | ||
| 公開號 | 1066299 | 公開日 | 1992.11.18 |
| 主分類號 | C23C16/26 | 分類號 | C23C16/26;C23C16/48 |
| 申請?zhí)?/strong> | 91102584.7 | ||
| 分案原申請?zhí)?/strong> | 申請日 | 1991.04.28 | |
| 頒證日 | 優(yōu)先權 | ||
| 申請人 | 北京科技大學 | 地址 | 100083北京市學院路30號 |
| 發(fā)明人 | 楊保雄; 呂反修; 蔣高松; 葉銳曾 | 國際申請 | |
| 國際公布 | 進入國家日期 | ||
| 專利代理機構 | 北京科技大學專利代理事務所 | 代理人 | 劉月娥 |
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種用化學氣相沉積工藝沉積可用于光學及電學領域的金剛石薄膜技術。其特征在于工作氣體中含有０．１—１０％的高純氧氣，０．１— １０％的高純甲烷，剩余為高純氫氣，工作氣體的壓力為１—１００τ，在金剛石膜沉積過程中微波功率為１００—５００瓦。本發(fā)明的優(yōu)點在于工藝簡單、重復性強，突破了金剛石薄膜的應用領域，可用于光學、電學領域。 | ||
豫公網(wǎng)安備41019702003646號