申請?zhí)枺?01510907027.3
　　申請人：哈爾濱工業(yè)大學
　　發(fā)明人：亓鈞雷 陳樹林 羅大林 張麗霞 曹健 馮吉才

　　摘要：一種利用表面處理改善硬質合金釬焊性能的方法，本發(fā)明涉及改善釬焊性能的方法。本發(fā)明要解決現(xiàn)有硬質合金由于表面存在大量游離碳而導致釬料在其表面潤濕性差，進而使其與鋼的釬焊接頭出現(xiàn)強度低的問題。本發(fā)明的方法：首先對材料進行預處理，然后在等離子體增強化學氣相沉積真空裝置中進行刻蝕和熱處理去除硬質合金表面游離碳，最后將釬料置于材料的待焊接面之間，并放置于真空釬焊爐中進行釬焊。本發(fā)明用于利用表面處理改善硬質合金釬焊性能的方法。

　　主權利要求：1.一種利用表面處理改善硬質合金釬焊性能的方法，其特征在于它是按照以下步驟進行的：一、將硬質合金與45#鋼分別用金剛石磨盤打磨，然后依次用丙酮超聲預處理10min～20min，得到預處理后的硬質合金和預處理后的45#鋼；二、將預處理后的硬質合金置于等離子體增強化學氣相沉積真空裝置中，抽真空至壓強為20Pa～100Pa以下，通入氬氣，調節(jié)氬氣氣體流量為5sccm～20sccm，調節(jié)等離子體增強化學氣相沉積真空裝置中壓強為100Pa～200Pa，并在壓強為100Pa～200Pa和氬氣氣氛下，將溫度升溫至400℃～800℃；三、通入氫氣，調節(jié)氫氣氣體流量為5sccm～20sccm，調節(jié)氬氣氣體流量為40sccm～55sccm，調節(jié)等離子體增強化學氣相沉積真空裝置中壓強為200Pa～800Pa，然后在射頻功率為100W～200W、壓強為200Pa～800Pa和溫度為400℃～800℃的條件下進行刻蝕處理，刻蝕時間為5min～30min；四、刻蝕結束后，關閉射頻電源，停止通入氬氣，調節(jié)氫氣流量為5sccm～40sccm，調節(jié)等離子體增強化學氣相沉積真空裝置中壓強為200Pa～800Pa，在射頻功率為100W～200W、壓強為200Pa～800Pa和溫度為400℃～800℃的條件下，熱處理5min～20min；五、熱處理后，停止通入氫氣，以冷卻速度為5℃/min～10℃/min將溫度由400℃～800℃冷卻至室溫，得到去除游離碳的硬質合金；六、將釬料置于去除游離碳的硬質合金與預處理后的45#鋼的待焊接面之間，并放置于真空釬焊爐中，對真空釬焊爐抽真空至1×10-3Pa～5×10-3Pa以下，然后在溫度為700℃～900℃下保溫2min～10min，最后將溫度由700℃～900℃冷卻至室溫，即完成一種利用表面處理改善硬質合金釬焊性能的方法。
　　2.根據(jù)權利要求1所述的一種利用表面處理改善硬質合金釬焊性能的方法，其特征在于步驟一中所述的硬質合金為YT類硬質合金。
　　3.根據(jù)權利要求1所述的一種利用表面處理改善硬質合金釬焊性能的方法，其特征在于步驟六中所述的釬料為Ag基釬料或Cu基釬料。
　　4.根據(jù)權利要求1所述的一種利用表面處理改善硬質合金釬焊性能的方法，其特征在于步驟一中將硬質合金與45#鋼分別用金剛石磨盤打磨是依次按200#、400#、600#、800# 及1000#的金剛石磨盤進行打磨。
　　5.根據(jù)權利要求1所述的一種利用表面處理改善硬質合金釬焊性能的方法，其特征在于步驟三中調節(jié)等離子體增強化學氣相沉積真空裝置中壓強為500Pa～700Pa，然后在射 頻功率為100W～200W、壓強為500Pa～700Pa和溫度為400℃～800℃的條件下進行刻蝕處理， 刻蝕時間為5min～30min。
　　6.根據(jù)權利要求1所述的一種利用表面處理改善硬質合金釬焊性能的方法，其特征在于步驟三中然后在射頻功率為100W～200W、壓強為200Pa～800Pa和溫度為500℃～700℃ 的條件下進行刻蝕處理，刻蝕時間為5min～30min。
　　7.根據(jù)權利要求1所述的一種利用表面處理改善硬質合金釬焊性能的方法，其特征在于步驟三中然后在射頻功率為100W～200W、壓強為200Pa～800Pa和溫度為400℃～800℃ 的條件下進行刻蝕處理，刻蝕時間為5min～15min。
　　8.根據(jù)權利要求1所述的一種利用表面處理改善硬質合金釬焊性能的方法，其特征在于步驟三中調節(jié)氫氣氣體流量為5sccm，調節(jié)氬氣氣體流量為55sccm。
　　9.根據(jù)權利要求1所述的一種利用表面處理改善硬質合金釬焊性能的方法，其特征在于步驟三中調節(jié)氫氣氣體流量為10sccm，調節(jié)氬氣氣體流量為50sccm。
　　10.根據(jù)權利要求1所述的一種利用表面處理改善硬質合金釬焊性能的方法，其特征在于步驟三中調節(jié)等離子體增強化學氣相沉積真空裝置中壓強為500Pa，然后在射頻功 率為100W～200W、壓強為500Pa和溫度為400℃～800℃的條件下進行刻蝕處理，刻蝕時間為5min～30min。